Nuevo método de deposición física de vapor para perovskitas híbridas: crecimiento de películas delgadas de mapbi 3 mediante pulverización catódica por magnetrón de radiofrecuencia.

Solución-
La representación basada en el método se utiliza para la deposición de compuestos orgánicos mixtos.
Para bajos-
Celdas solares de alto costo pero eficientes.
Sin embargo, la solución
La tecnología de proceso proporciona un control limitado sobre la morfología y los cristales de la película y, lo que es más importante, no se permite la deposición continua de la película para producir perovskita.
Las propiedades de transporte magnético del tipo cristalino.
El metanol nh3pbi3 se depositó con éxito aquí (MAPI).
Película RF
Se informa que esta es una industria
Método de ensayo para controlar con precisión el crecimiento de dispositivos a gran escala mediante metrología química.
Las películas MAPI provienen de una sola fuente.
Objetivo del sistema de metanol (MAI) y PbI2.
Las películas son individuales.
En esta fase, prácticamente no se detectó contenido de PbI2 no reactivo, con una cobertura superficial completa y un espesor que oscilaba entre menos de 200 nm y más de 3 μm.
Las propiedades de absorción y emisión óptica de las películas depositadas se pueden comparar con las de las películas cultivadas en solución.
La película que ha sido procesada.
Desarrollo del vapor-
El método de deposición de fase está interesado en promover dispositivos fotovoltaicos de perovskita, y es posible fabricar células solares de múltiples uniones de perovskita o de luz intensa multicolor.
Piezas emisoras en todo el espectro visible.
La ruta de fabricación simple representa una mezcla orgánica-
Para la fabricación de perovskitas inorgánicas de alta eficiencia pero baja
Costo de las células solares. Solución-
El método basado en métodos es el más extenso para la preparación de películas de perovskita, además de ser fiable y económico.
Sin embargo, incluso una solución optimizada
El método de proceso se ve afectado por las deficiencias.
Una de ellas es la falta de control sobre las posiciones bajas.
El proceso de cristalización a temperatura se ve afectado por varios factores, como el disolvente y el precursor, las propiedades de la superficie del sustrato, la evaporación del disolvente y las condiciones de recocido en el proceso de deposición, lo que generalmente conduce a una mala repetibilidad de la morfología de la película, el espesor, el grado de cristalización y el tamaño del cristal tienen un impacto crucial en el rendimiento fotovoltaico.
El segundo inconveniente principal es que la deposición continua de la película a partir de la solución no puede producir perovskita.
Dado que los disolventes utilizados para depositar las capas subsiguientes eliminan la capa subyacente, se produce una estructura heterogénea de la perovskita.
Por lo tanto, todas las células solares tándem multijunción y los nodos basados ​​en perovskita están progresando muy lentamente.
Una alternativa muy prometedora a la solución.
Enfoque basado en vapor
La tecnología de deposición, que se ha puesto en marcha en los últimos años, ha despertado mucho interés como posible solución a los problemas mencionados.
En general, gracias al control preciso del entorno de vacío y de los parámetros de deposición, se espera que estos métodos proporcionen la pureza tanto de la muestra inicial como de la película depositada, lo que dará como resultado un alto nivel de cristales de perovskita y películas reproducibles.
Además, el método de vapor es adecuado para escala-
Preparación y deposición en grandes superficies.
El método de vapor no requiere el uso de solventes ni pasos de recocido, lo cual es fundamental ya que permite la perovskita sobre
Depósitos de perovskita que crean estructuras heterogéneas y nudos.
Hasta ahora, vapor
El método basado en el proceso de evaporación al vacío y el proceso de evaporación con vapor se utiliza principalmente para la síntesis de sal ácida de perovsk híbrida.
Asistencia en el proceso de solución (VASP)
Existen muy pocos otros intentos de recubrimiento por evaporación instantánea y pulverización ultrasónica.
Aquí proponemos una ruta basada en la tecnología de pulverización catódica para proporcionar un único proceso altamente repetible.
Película de perovskita mixta con cobertura total de la superficie del sustrato como beneficio adicional de la industria.
Técnicas de ensayo para el crecimiento de películas en grandes superficies.
La eficiencia de deposición relativamente baja de la pulverización catódica se supera mediante el dispositivo basado en el control magnético.
Hasta el momento, no se han publicado informes sobre la deposición de películas de perovskita híbrida mediante pulverización catódica.
Mezcla orgánica según el informe anterior.
En este artículo presentamos una película de perovskita inorgánica exitosa
Cultivo en maceta de yodo amónico de plomo CHNHPbI (MAPI)
A través de RF-
De un objetivo por CHNHI (MAI)
Y una mezcla de PbI de MAI superior al 30% p/p.
La tecnología de pulverización catódica permite un ajuste fino de las condiciones de deposición mediante el ajuste de diferentes parámetros, como RF-
Potencia, presión de gas y distancia objetivo al sustrato, lo que proporciona una excelente plataforma para optimizar aún más la película de perovskita y extender el enfoque MAPI propuesto aquí a cualquier otro material de interés en el campo de las células solares de perovskita (PSC).