Вытягивание аморфных пленок с постоянной скоростью.

Представил собрание (
Питомец)(ПИТ)
Таким образом, свойства пленки и ее практическое применение напрямую зависят от молекулярной ориентации и морфологии, формируемых в процессе обработки пленки.
Хотя производительность можно регулировать, изменяя параметры процесса, выбор процессов «балансировки» или «обратного» обеспечит сбалансированное или предпочтительное ориентационное удаление пленки в плоскости пленки соответственно.
Традиционный-
Так называемый процесс «балансировки» состоит из трех этапов.
Первый из них вертикальный (
(Управление машиной)
Рисуйте с постоянной силой и постоянной шириной.
На втором этапе однослойная пленка растягивается горизонтально с постоянной скоростью, а третий этап представляет собой, по сути, высокотемпературную обработку твердым веществом.
В «обратной» последовательности аморфная пленка сначала растягивается горизонтально с постоянной скоростью, а затем вертикально с постоянным напряжением и постоянной шириной.
Последний этап — это горячее спекание двухсторонней стретч-пленки.
Движение растягивающей платформы в ходе этих двух процессов существенно различается.
Поскольку явление релаксации кристаллов и цепей происходит во время растяжения, морфология и молекулярная ориентация кристаллической фазы могут значительно различаться в каждом конкретном случае.
Структура аморфной ПЭТ-пленки, растянутой под действием постоянной силы (постоянной ширины).
Несколько групп исследовали условия (1-7).
Эти пленки либо изготавливаются промышленными процессами (1)
Или в лабораторных масштабах (2-7).
Что касается влияния параметров процесса, было показано, что большинство свойств пленки определяется коэффициентом растяжения, а не температурой или приложенным напряжением.
Подробные описания можно найти в других источниках (3-6).
Хотя в различных исследованиях рассматривалось представление деформированного ПЭТ при одностороннем растяжении с постоянной скоростью деформации (8, 9)
Или при постоянной скорости волочения (10-15)
Меньше работы выполняется при условии плоскостной симметрии с одной осью (16-20).
Цель данной работы — точно описать влияние макропараметров (
Например, температура и раввин)
Структура и ориентация пленки, подвергнутой растяжению с заданной скоростью, позволяют сравнить первое растяжение в двух процессах.
Данное исследование является первой частью более масштабного проекта, в рамках которого будут изучены три этапа обратного процесса, как это было сделано ранее с помощью метода «баланса» (3-6, 22, 23).
Аморфная изогелевая ПЭТ-пленка, полученная методом быстрого охлаждения экструдированного расплава на холодном валу по технологии Роны-Пуленка.
Средняя молекулярная масса различается для двух образцов со стандартной вязкостью (СВ).
Или полимер с низкой вязкостью (LV)
Использовано в данном исследовании.
Вязкость расплава измеряли при 280 градусах.
C. Используйте реостат aRheometrics II с конусно-пластинчатой ​​геометрией (
Диаметр 25 мм, угол конуса 0,02 рад.
Было обнаружено, что поведение Ньютона достигает 1000 [s. sup. -1].
Температура стеклования 80 [градусов]
C, измеренное методом ДСК при скорости нагрева 20 [градусов]
С/мм для двух пленок.
Эти образцы были подготовлены на специально разработанном волочильном станке в научно-исследовательском центре Rhone St Fons Research Center Poulenc.
Вот так выглядит картинка.
Аморфная пленка (
30x100 мм)
В первый раз нагрейте материал в течение 30 секунд при желаемой температуре растяжения.
Такого времени нагрева достаточно для достижения теплового баланса образца и приспособления без образования кристаллов.
Затем растяните нагретую пленку под номером 0,75[s. sup. -1](
(В условиях, близких к условиям промышленного процесса)
Достигните необходимого соотношения сторон графического интерфейса программы.
Типичные температуры растяжения составляют от 85 до 115 °C.
В процессе растягивания пленка сохраняет постоянную ширину благодаря двум небольшим боковым креплениям с обеих сторон.
Наконец, образец продувают воздухом при комнатной температуре.
Время гашения оценивается примерно в 3 секунды.
Проверьте равномерность процесса растяжения по всей сетке на образце.
При самой высокой исследованной температуре растяжение стало неравномерным, и образец постепенно деформировался в направлении средней части.
Для проведения репрезентативного исследования часть файла растяжения вырезается в зоне равномерной деформации, и на сетке измеряется истинное соотношение растяжения.
При заданной температуре и коэффициенте вытяжки в программе образцы LV демонстрируют более высокий реальный коэффициент вытяжки, чем образцы sv.
В таблице 1 приведены свойства и условия растяжения образца.
В этой статье мы выбрали [X. sub. 1]
В соответствии с указаниями чертежа, [X. подраздел 2]
Перпендикулярно направлению [X. sub. 1]
На плоскости фильма и [X. суб. 3]
Направление, перпендикулярное плоскости пленки.
Впоследствии направление u любой молекулярной молекулы определяется относительно любого макронаправления [X. sub. i]
Будет количественно оценено с помощью среднего значения полинома Ле Жана второго порядка: [
Математическое выражение опущено (1), где [[Theta]. sub. u,Xi]
Угол между осью U и осью X. [подпункт i]
В скобках указано среднее значение по всем молекулярным единицам. ЭКСПЕРИМЕНТАЛЬНЫЙ X-
Измерение ориентации широкоугловой рентгеновской дифракции
Метод дифракции лучей был использован для характеристики морфологии кристаллов и ориентации направлений двух характерных кристаллов.
Два результата опроса: (105)
Нормаль его плоскости близка к оси цепи и (100)
Его плоскость обычно находится близко к нормали бензольного кольца.
Ниже мы будем ссылаться на элементарную ячейку, определенную Даубени и др. (22). Рентгеновские лучи (излучение Cu K[Alpha])
Это генератор с напряжением 39 кВ и током 30 мА, а также трансформатор Huber 4-.
Наклоните образец с помощью угломера.
Толщина образца составляет около 400 [[микро]метров]
Получено путем наложения нескольких стретч-пленок друг на друга. Процедура [
Данные таблицы опущены из таблицы 1]
Соотношение для получения параметров порядка [P. sub. 200]
Подробно ли это описано Файсантом и другими? (22).
Здесь будет приведено лишь краткое описание.
Для определения направления во всех пространствах требуется два поворота: [[Phi]. sub. o]для вне-
Вращение в плоскости][Фи]. под. п]для вращения в плоскости. [[Фи]. под. о]
Определяется как угол между вектором рассеяния [
Математическое выражение опущено
И в направлении плоскости фильма, и [[Фи]. суб. п]
Это можно изменить, повернув пленку вокруг ее нормального положения.
Для сбора данных использовалась следующая процедура: (105)
Отражение: используются настройки транспорта. Угол[[Phi]. sub. p]
Избранные и [[Фи]. суб. о]
От -30 [градусов] до 30 [градусов] с шагом в 2 [градуса]. [[Фи]. суб. п]
Каждые 2 [имеют значение] градуса]
Направление рисования примерно (-20 [градусов] до 20 [градусов] если [[Фи]. суб. п]
Приравниваем к нулю, когда [
Математическое выражение опущено
Параллельно [X. sub. 1]) и каждые 5 [градусов] в других местах.
Пражский угол выбран с максимальной силой (105) отражения ([
Математическое выражение опущено (около 43 градусов).
Полученная матрица прочности I ([[Phi]. sub. p],[[Phi]. sub. o])
Исправлены аморфный фон и изменения поглощения [[Phi]. sub. o]
Как описано Faisant et al. (22). (100)
Рефлексия: Программа рефлексии и [[Theta]. sub. 100]
При максимальной интенсивности облучения она составляет от 25,5 до 26 градусов.
Сбор данных осуществляется следующим образом: [[Phi]. sub. o]
Впервые было выбрано значение [[Phi]. sub. p], изменяющееся от -20 [градусов] до 200 [градусов] с шагом в 5 [градусов]. Значения [[Phi]. sub. o]
Выбирается каждые 2 градуса от -60 градусов до 60 градусов ([[Фи]. подстановка o] равна 0 градусам
(Соответствует вращению в плоскости Денга).
Также была скорректирована экспериментальная матрица прочности.
Параметры заказа ([P. sub. 200])
Расчеты произведены в трех основных направлениях в двух направлениях (105) и (100) отражений.
Относительно основного направления выборки сумма параметров 3-го порядка должна быть равна нулю. Значение [меньше] 0.
04 равно (100)
И вы получите ноль (105).
Отклонение второго малого обусловлено обширным распределением плоскостей (100) нормалей.
Оценка размера кристалла с использованием трех направлений кристалла: [105], [010] и [100].
Уравнение Шеррера используется для определения размера по углу дифракционного пика. [L. sub. hkl]= [Lambda]/cos [[Theta]. sub. hkl]x[Delta][[Theta]. sub. hkl](2)где [Delta][[Theta]. sub. hkl]
Его ширина составляет половину высоты, [[Theta]. sub. hkl]
Угол максимальной силы и [Лямбда]
Какова длина волны рентгеновских лучей? (1,54 [Ангстрем]).
Нет необходимости исправлять [Delta][[Theta]. sub. hkl]
Для расширения набора инструментов
Ниже ,[
Математическое выражение опущено
Будет рассматриваться как длина, [L. sub. 010] — ширина и [L. sub. 100]
Толщина кристалла.
Показатель преломления измеряется в трех основных направлениях с помощью прибора Аббе для измерения преломления поляризованного света.
Плотность и степень кристалличности [Chi]
Он рассчитывается на основе среднего показателя преломления [
Математическое выражение опущено
Используйте следующую формулу: [
Математическое выражение опущено(3)[Chi]= d -[d. sub. a]/[d. sub. c]-[d. sub. a](4)где [d. sub. a]
Плотность аморфной фазы и [d. sub. c]
Плотность кристаллической фазы.
Некоторые считают, что это составляет 1,335 и 1,455 г/см³ соответственно.
Лаперсонн и другие это показали. (4)
Вследствие цилиндрической симметрии тензора скорости поляризации, измерение показателя преломления приводит к усреднению общей ориентации нормали к бензольному кольцу по кристаллической и некристаллической фазам.
Вычислите среднее значение полинома Лейде второго порядка [
Математическое выражение опущено(5)
Я, Дж, К упомянули три основных направления фильма. РЕЗУЛЬТАТЫ I -
Первая фаза Кристалл1 -
Степень кристалличности отображает зависимость между степенью кристалличности и коэффициентом растяжения на рисунке 1.1.
В образцах с неравномерной деформацией (
Особенно при максимальной температуре 115°C)
Локальный масштаб рисунка определяется по сетке, нанесенной на образец.
Небольшой размер образца, необходимый для измерения кристаллической структуры, позволяет получить несколько данных о соотношении кристаллической структуры к прочности на растяжение для одного и того же изделия. При 115 градусах
C. Рост степени кристалличности и [Лямбда]
Показана сигмоидальная форма, которая наблюдалась и в других местах (8, 14, 19, 24).
При более низкой температуре исследованное значение коэффициента растяжения было слишком велико, чтобы увидеть начало образования кристаллов.
На рисунке I также показано, что кристаллы, образующиеся под действием напряжения, появляются при более высоком коэффициенте растяжения по мере повышения температуры растяжения.
Такое поведение можно объяснить концепцией критической ориентации, необходимой для образования кристаллов.
Согласно Лебурвеллеку и другим. (8)
Эта критическая ориентация уменьшается с повышением температуры.
Задержка сигнала в кристалле наблюдается при 115 градусах.
На рисунке C показано, что релаксация является распространенным явлением и требует большего коэффициента растяжения для достижения критической ориентации.
При одинаковой температуре наблюдается небольшая разница между образцами LV и SV.
С уменьшением молекулярной массы для получения одинаковых кристаллов в обоих типах образцов требуется более высокая степень сушки.
Это наблюдение можно объяснить зависимостью явления релаксации цепи от молекулярной массы и времени релаксации. I. 2 -
Диаграмма оси цепи направлений 2a, B и c показывает (105)
Плоскость нормальна относительно направлений [X. sub. 1], [X. sub. 2] и [X. sub. 3].
По сравнению с коэффициентом вытягивания, соответственно.
Ось цепи, по-видимому, все больше выравнивается в направлении вытягивания [
[Диаграмма на рисунке 2А опущена]
* С увеличением степени вытяжки * с понижением температуры * с увеличением вязкости расплава.
Однако степень ориентации, по-видимому, остается стабильной при самом высоком коэффициенте вытяжки.
Ось цепи имеет очевидное направление при среднем коэффициенте вытягивания в плоскости пленки ([Лямбда][больше]3,5).
Похоже, это не зависит от температуры рисунка.
Рисунок 2C опущен].
Поскольку сумма функций ориентации вдоль трех основных направлений пленки [
Математическое выражение опущено
Должно быть равно нулю и [
Математическое выражение опущено
Практически без изменений, относительно направления [X. sub. 2]
По сути, это «зеркало» относительно «X. sub. 1].
С повышением температуры ориентация оси цепи в кристаллической фазе ослабевает, что отчетливо видно на рисунке 2а и б.
Кроме того, при уменьшении молекулярной массы наблюдалась более низкая ориентация при тех же условиях температуры и коэффициента растяжения.
Такое поведение еще раз подчеркивает роль процесса релаксации цепи в ориентации кристаллической фазы.
Это не очевидно, поскольку, согласно модели Кратки, ориентацию кристаллической единицы можно рассматривать как вращение стержня (25)
Преобладающее положение процессов деформации и релаксации не должно играть важной роли.
Следует отметить, что при скорости деформации, применяемой для растяжения, поведение ориентации оси кристаллической цепи сильно отличается от поведения деформации при постоянном напряжении (3).
Этот вопрос будет более подробно обсужден в разделе "Обсуждение".
Направление бензольного кольца, показанное на рисунке 3a, B и c (100)
Нормаль плоскости относительно основного направления [X. sub. 1], [X. sub. 2], [X. sub. 3]
Коэффициент вытягивания образцов SV.
Как обычно наблюдается в ПЭТ-пленках, бензольное кольцо с увеличением коэффициента растяжения смещается все дальше в плоскость пленки.
Как показано на рисунке, механизм ориентации также зависит от процесса релаксации.
На параметр 3a влияет температура растяжения.
По мере развития деформации, по мере того как ось цепи кристаллической стадии все больше ориентируется в направлении растяжения, нормаль к бензольному кольцу [примерно нормаль к плоскости (100)]
Как показано на рисунке, они стремятся быть перпендикулярными направлению рисунка3b.
Лучше наблюдать эволюцию нормального направления бензольного кольца в зависимости от коэффициента растяжения в 3-
Карта размеров, полученная путем измерения изонаправленной проекции дифракции X-
Интенсивность света на плоскости пленки [
Диаграмма на рисунках 4А и В опущена.
С увеличением доли лотерей широта распространения значительно уменьшилась [X. sub. 1], чем [X. sub. 2].
Это объясняет относительно постоянное значение.
Математическое выражение опущено.
При самой высокой температуре (115 °C)
Что за двойной звонок?
О распределении форм [X. sub. 3]
Наблюдается в соотношении количества проведенных опросов.
Его присутствие более очевидно на рисунке 1.
4c, где интенсивность дифракции и угол поворота плоскости ([[Phi]. sub. p]) при [[Phi]. sub. 0] = 20 [градусов].
Его появление объясняет тот факт, что отрицательных значений меньше.
Математическое выражение опущено
Оно было получено в этих условиях.
По мере того, как процент выигрыша в лотерее увеличивается до 105 градусов,
На рисунке 4c двойные пики становятся все менее и менее выраженными и в конечном итоге могут слиться в один пик.
Было проверено, что появление этого двойного распределения нельзя объяснить вкладом другого пражского отражения, подобного [1]110].
Механизм деформации, приводящий к этой двойной деформации колокола.
В настоящее время распределение форм неясно.
Низкое напряжение и высокая температура способствуют двойному распределению, т. е.
В полимерных пленках, подверженных среднему напряжению. I. 3 -
На рисунках 5a, B, c показан размер кристалла вдоль направлений [105], [010] и [100] в зависимости от [Лямбда].
Образцы SV и LV.
Независимо от температуры и независимо от вязкости расплава,
Математическое выражение опущено
Bigger [L. sub. 010]
Больше [L. sub. 100]
Как было замечено в образце, растянутом под постоянной силой (3).
Вдоль длины [
Математическое выражение опущено
С повышением температуры скорость коррекции увеличивается, но затем уменьшается.
По мере уменьшения молекулярной массы полимера при заданных условиях температуры и коэффициента растяжения можно получить кристаллы меньшего размера.
105 и 115 [градусов]
C. Длина кристалла, по-видимому, достигает постоянного значения, которое уменьшается с повышением температуры.
Динамика роста кристаллов определяется формой кривой на рисунке.
В наших экспериментальных условиях соединение 5a, по-видимому, не подвержено влиянию температуры или молекулярной массы.
Незначительное влияние молекулярной массы означает, что образование кристаллов под воздействием напряжения в основном связано с перемещениями полимерных цепей в ближнем пространственном масштабе.
Усиление конкуренции между увеличением динамики кристалла и уменьшением времени релаксации при температуре может объяснить, почему температура не влияет на рост кристалла вдоль направления [105].
Вдоль длины [010]
В этом направлении наблюдается слабый рост при деформации, и оно не зависит от температуры.
Вместо этого размер кристалла вдоль направления [100] (
(Называется толщиной, потому что минимальный размер наблюдается именно в этом направлении)
По всей видимости, этот процесс в основном контролируется температурой и мало влияет на степень вытяжки и молекулярную массу.
Повышение температуры приведет к увеличению [L. sub. 100]
Наблюдалось в других исследованиях (3).
Можно утверждать, что рост вдоль [направления]100]
Это не зависит от ориентации молекул, но предпочтительно из-за повышения текучести.
Слабое влияние раввина (
Или растянуть время)
Это означает, что кристаллы, образующиеся под действием ориентации, формируются при температуре растяжения, соответствующей толщине равновесного состояния.
Рост кристаллов наблюдается только вдоль направления [105], т.е.
Вдоль электрического вала.
Знание размеров кристаллов вдоль трех независимых направлений позволяет оценить их объем и степень их связи с другими кристаллами, что приводит к определению среднего числа кристаллов на единицу объема.
Эти два набора данных сравниваются с коэффициентом вытягивания на графике. 6a и b.
Анализ этих данных показывает различное поведение в зависимости от температуры.
При низких температурах размер кристалла значительно увеличивается с ростом коэффициента растяжения, в то время как количество кристаллов остается практически постоянным.
При высокой температуре (115 °C)
Объем кристалла, по-видимому, стабилизируется при высоком коэффициенте растяжения, при этом количество кристаллов также увеличилось.
Это различие может указывать на небольшую разницу в механизме кристаллизации при низких и высоких температурах.
При низких температурах все кристаллы образуются, когда ориентация достигает критического значения.
Дальнейшее растяжение приводит к увеличению длины кристалла.
При высоких температурах после локального формирования критической ориентации образуются некоторые кристаллы.
Построение этой кристаллической сетки подавляет или, по крайней мере, замедляет релаксацию и позволяет ориентации молекул достичь критического значения в других местах, тем самым способствуя образованию новых кристаллов.
Количество кристаллов, наблюдаемых при 105 [уменьш. градусах]
Значение Ci находится в пределах погрешности эксперимента.
Его появление можно объяснить резким увеличением длины [Кристалла]105].
Это может привести к слиянию некоторых кристаллов. II -
Из измерений показателя преломления следует, что общая ориентация нормального бензольного кольца в среднем перпендикулярна ориентации бензольного кольца в кристаллической и некристаллической фазах, по сравнению с изображением на рисунке 7a, b, c.
На среднюю ориентацию влияют коэффициент растяжения и температура растяжения.
На рисунке 7 показано, что нормаль к бензольному кольцу стремится быть перпендикулярной направлению растяжения [по мере развития деформации]X. sub. 1] (как и ожидалось).
И все более параллельные [X. sub. 3]
Это отражает тенденцию бензольного кольца кристаллической фазы располагаться в плоскости пленки.
Наблюдается слабое направление, параллельное последнему направлению [X. sub. 2].
С повышением температуры релаксация приводит к уменьшению ориентации при заданном коэффициенте растяжения.
Аналогичным образом, потеря ориентации наблюдалась по мере уменьшения молекулярной массы полимера.
Соответствующие данные образца составляют 115 [градусов растяжения]
На рисунке C показано, что появление кристаллов отражается в быстром изменении ориентации относительно любого макронаправления, что можно объяснить сильной ориентацией кристаллического блока.
Было отмечено небольшое изменение средней ориентации на уровне 115 градусов.
C. Максимальная скорость откачки.
Эта тенденция не очевидна при более низкой температуре, и при более низкой температуре ориентация, по-видимому, остается постоянной с увеличением коэффициента растяжения. III -
Двухфазная модель, основанная на гипотезе некристаллической ориентации, позволяет получить оценку ориентации перпендикулярно бензольному кольцу в некристаллической фазе.
Рассчитанная аморфная ориентация: [
Математическое выражение опущено (6), где [
Математическое выражение опущено
Определяется показателем преломления и [
Математическое выражение опущено
Использование X-компьютеров
Данные дифракции лучей As [
Математическое выражение опущено
Не полностью соответствует нормальному направлению бензольного кольца в кристаллической фазе, поскольку уравнение 6 означает суммарную ошибку по [Chi], [
Математическое выражение опущено и [
Математическое выражение опущено
Обсуждаются лишь общие тенденции.
Результаты представлены на рисунке 8a, b, c.
Как и ожидалось, данные чувствительны к коэффициенту вытягивания и температуре.
Нормаль к бензольному полю в аморфной фазе стремится все больше и больше к перпендикуляру направлению растяжения и становится параллельной двум другим направлениям.
С повышением температуры в принципе наблюдается релаксация ориентации аморфной фазы относительно [X. sub. 1] и [X. sub. 3]. Не-
Сравнивая ориентацию вдоль [направления], на рисунках 8a и 8c можно наблюдать одноосевые особенности ориентации [X. sub. 3] и [X. sub. 2].
Чем выше температура, тем больше разница [
Математическое выражение omittedam and[
Mathematical expression omittedam.
Сравнение инжира.
На рисунках 8c и 3c показано, что ориентационное поведение в кристаллической и аморфной фазах сильно отличается от направления [X. sub. 2].
Увеличение в направлении линии петли относительно [X. sub. 2]
Это наблюдается в аморфофазе, тогда как кристаллическая пара предпочтительнее перпендикулярна [X. sub. 2].
Этот эффект обусловлен лишь высокой ориентацией [100] вдоль [X. sub. 3]
Направление, вызывающее преимущественную вертикальную ориентацию в том же кристаллическом направлении вдоль двух других осей. IV -
Механическое поведение при номинальном напряжении растяжения [[Сигма]. суб. 0]= F/[С. суб. 0]
F — сила натяжения, а [S. sub. 0]
Начальная часть образца сравнивается с масштабом чертежа на рисунке 9.
Из-за неравномерности деформации кажущееся отношение прочности на растяжение отличается от истинного отношения прочности на растяжение, измеренного в середине образца и использованного для предыдущих чертежей. За исключением 85 градусов.
С. форма напряжения
Кривые деформации, аналогичные описанным Салемом (19). При 85 [градусах]
В случае С максимальное напряжение наблюдалось при средней деформации, аналогично напряжению, хотя растяжение проводилось выше температуры стеклования.
Такое поведение также наблюдается в других деформированных полимерах при температурах несколько выше [T. sub. g](26, 27).
При низкой деформации, [[Сигма]. суб. о]
Почти линейный рост [Лямбда].
К сожалению, имеющихся данных слишком мало для точного расчета модуля Юнга.
Однако, по мере повышения температуры или снижения вязкости, она, по-видимому, уменьшается, что можно предсказать, исходя из линейного вязкостного поведения аморфных несшитых полимеров.
Это напряжение, которое резко возрастает при деформации, сменяется плато, и длина плато увеличивается по мере повышения температуры. Салем (19)
Точка перегиба описывается как возникновение кристаллов, индуцированных напряжением.
Собранные нами данные представлены в [градусах]
C. Подтвердите это наблюдение, поскольку оно примечательно для кристалла с общим коэффициентом растяжения 2,5.
Последняя часть стресса
Кривая деформации соответствует состоянию, в котором напряжение сильно возрастает с деформацией, что можно объяснить деформацией сетки, где кристалл действует как точка постоянного соединения (19).
Согласно этой идее, оценку плотности сети можно получить из последней части кривой напряжение-деформация.
Фактически, как только формируется сеть, дополнительное напряжение, необходимое для деформации, связано с коэффициентом растяжения [Лямбда][штрих]
Через следующие соотношения (28): [[Сигма]. суб. экстра]= G([Лямбда][прост]-1/[[Лямбда][прост]. суп. 3])(7)
Где модуль сети G, [Lambda][prime]=[Lambda]/[[Lambda]. sub. network], и [[Lambda]. sub. network]
Определяется как коэффициент вытягивания при формировании сети.
Это определяется путем присвоения соответствующего общего балла точке, где наблюдается изменение наклона при больших деформациях, по сравнению с реальным графиком.
Диаграмма опущена на рисунке 1]. [[Лямбда]. подсеть]
Для образцов SV при каждой температуре указано стрелкой. 9. [[Sigma]. sub. extra]
И ([Лямбда][простое]-1/[[Лямбда][простое]. суп. 3]) на рис. 10.
При 95 [модуль упругости сетки явно того же порядка величины] и 105 [градусов]C (8 МПа)
И значительно снижено (3,4 МПа) при 115 °C.
По мере уменьшения молекулярной массы деформация образца при заданной температуре требует меньшего напряжения.
Кроме того, по совпадению, данные образцов LV практически совпадают с данными образцов sv с 10 [градусами].
C. температурный сдвиг.
Разница в вязкости по сравнению с температурой плавления (таблица 1)
Между временем релаксации образцов левого и правого желудочков ожидаемый коэффициент равен 2.
Корреляция кривой позволяет проверить, согласуется ли этот фактор с фактором сдвига WLF [a. sub. T].
От 95 до 105 [1 [градусов]
C или 115 [1 [градусов]C.
Очевидно, это не так, потому что [a. sub. 95/105]=12 и [a. sub. 105/115]
= 6 Коэффициент WLF, полученный с использованием формулы Лебурвеллека (29).
Таким образом, можно сделать вывод, что давление-
Деформационное поведение чувствительно не только к времени релаксации, но и к тому, что кристаллическая динамика представляет собой конкурирующий механизм.
В этом разделе мы обсудим и сравним основные различия между растяжением с постоянной силой и деформацией с принудительной скоростью деформации.
В обоих случаях влияние коэффициента растяжения и температуры растяжения на ориентацию и морфологию кристаллической фазы оказывается совершенно различным.
Было показано, что для образцов, которые растягиваются до достижения равновесной деформации [при постоянной нагрузке][Лямбда]. [под. п]
Направление вала цепи ([
Математическое выражение опущено (направление)
О направлении растяжения и нормальном направлении бензольного кольца ([100]направление)
О [X. подраздел 3]
Направление — это функция сложения графика баланса [[Lambda]. sub. p]
Независимо от температуры растяжения или приложенной нагрузки (3).
В случае образца деформация была остановлена ​​до [[Lambda]. sub. p](
(образцы для закалки)
Наблюдалось аналогичное поведение: т. е.
Направление не зависит от времени (
(Выберите по температуре и приложенной нагрузке)
Необходимо для достижения заданной деформации (30).
В случае образца, растянутого с заданной скоростью деформации, это явно не так.
При заданном коэффициенте растяжения ориентация уменьшается с повышением температуры, что указывает на главную роль явления релаксации.
Следовательно, на этом последнем участке ориентация оси цепи в кристаллической фазе значительно ниже.
В действительности, при растяжении с постоянной силой ориентация контролируется равновесным коэффициентом растяжения, что может быть обусловлено приблизительной компенсацией повышения температуры за счет уменьшения времени релаксации и увеличения динамики деформации.
Более тонкий акт различения относительно [100]
Также можно записать нормаль к плоскости.
При растяжении с постоянной силой ось цепи в кристаллической фазе демонстрирует настолько высокую ориентацию относительно направления растяжения, что [100]
Направление в основном перпендикулярное [X. sub. 1].
Увеличение коэффициента растяжения приводит к увеличению ориентации бензольного кольца в плоскости пленки, поэтому [
Математическое выражение опущено
По мере уменьшения масштаба рисунка.
Напротив, деформация при постоянной скорости деформации [
Математическое выражение опущено
Поскольку релаксация вала цепи практически постоянна относительно направления растяжения (
Это приводит к менее вертикальному направлению [100]
О направлении [X. подпункт 1])
А также ослабление предпочтительной ориентации бензольного кольца в плоскости пленки.
Различия в динамике двух типов деформации растяжения могут также приводить к различиям в морфологии и росте кристалла.
В то время как при постоянной силе количество кристаллов уменьшается с повышением температуры, при деформации, контролируемой скоростью деформации, это, по-видимому, не имеет никакого отношения к данному параметру.
Кроме того, в последнем случае количество кристаллов на единицу объема при растяжении увеличивается при высоких температурах.
Никогда не сталкивался с подобным поведением при растяжении с постоянной силой.
Ориентация кристалла в основном контролируется силой натяжения при растяжении с постоянной силой.
Это не означает, что в этом растяжении не будет релаксации, поскольку релаксация была обнаружена в аморфной ориентации, особенно в диапазоне температур от 95°C до 100°C, т.е.
В ограниченном диапазоне температур (4, 5).
При растяжении с постоянной скоростью деформации, по-видимому, происходит аналогичный тип релаксации.
Например, для образцов SV было обнаружено резкое изменение температуры в диапазоне от 105°C до 115°C.
Как показано на рисунке C. 10.
Кроме того, между двумя температурными диапазонами (
При растяжении с постоянной скоростью деформации)
Множитель 2.
Между склонами рисунка 5. 10.
В заключение данного исследования, экспериментально представлены результаты исследования молекулярной ориентации и морфологии ПЭТ-пленок, деформированных с постоянной скоростью под одной осью.
Приведено условие плоскостной симметрии.
Обратите особое внимание на влияние температуры и скорости растяжения.
Было установлено, что явление релаксации оказывает значительное влияние на ориентацию кристаллической и некристаллической фаз.
Такое поведение сильно отличается от поведения, наблюдаемого в условиях растяжения при постоянной силе, хотя общая тенденция ориентации одинакова, в основном из-за одного и того же типа тензора деформации.
В обоих случаях наблюдалось резкое изменение ориентации в узком температурном диапазоне.
В зависимости от того, проводится ли растяжение при низких или высоких температурах, структура кристаллической сетки, по-видимому, различается.
При температуре выше 110 градусов Цельсия создавайте более рыхлую сеть.
Подтвердите Рону.
Фильм Пуленка получил высокую оценку за то, что благодаря ему М.В. получил грант на обучение в аспирантуре.
Автор выражает благодарность доктору Ф. Букерелю (Рона-
Индустриализованный)
Благодарю его за помощь в подготовке ориентированных образцов и за проявленный интерес к работе. СПИСОК ЛИТЕРАТУРЫ 1. М.
Кэти, полимер, 1219 (1977). 2. Г.
Лебурвеллек и Дж. Ботемпс, J. App. Полим. наук. , 39, 329 (1990). 3. П. Лаперсон, Ж. Ф. Тассен, Л.
Моннери, Дж.
Полимер, 32,3331 (1991). 4. П. Лаперсон, Ж. Ф. Тассен, Л.
Полимер, 35,2192 (1994). 5. П. Лаперсон, Д.И. Бауэр и И.М.
Уорд, полимер, 1266 (1992). 6. П. Лаперсон, Д.И. Бауэр и И.М.
Уорд, полимер, 1277 (1992). 7. Г. Лоренц и Дж. Ф.
Тассин, полимер, 3200 (1994). 8. Г.
Лебурвеллекк, Л.
Моннери, JP
Джарри, полимер, 856 (1986). 9. Г.
Лебурвеллекк, Л.
Моннери, JP
Джарри, полимер, 1712 (1987). 10. А. Каннингем, И.М. Уорд, Х.А. Уоллис и В.
Polymer Zichy, 749 (1974). 11. A. Misra и R. S. Stein, J. Polym. Sci. : Polym. Phys. Ed. , 17,235 (1979). 12. KC Cole, J. Guevremont, A. Ajji и MM Dumoulin, App. Spectr. , 48, 1513 (1994). 13. J. Guevremont, A. Ajji, KC Cole и MM
Полимер, 36, 3385 (1995). 14. А. Аджи, К. К. Коул, М. М.
Дю Мулин и Дж.
Бриссон, полимер, 116,4023 (1995). 15. Дж. К. Родригес-Кабелло, Дж. К. Мерино, М. Р.
Фернандес и Дж. М. Пастор, Дж. Раман. Спектр., 27, 23 (1996). 16. Н. Йошихара, А. Фукусима, Ю. Ватанабе, А. Накаи, С. Номура и Х. Каваи, Журнал Общества волоконной науки и техники.
Japan, 387 (1981). 17. M. Cakmak, J. Spruiell, L. White, and JS Lin, Polym. Eng. Sci. , 27, 893 (1987). 18. M. Cakmak, L. White, and J.
Spruiell, polymorphism. Eng. Sci. , 29,1534 (1989). 19. DR
Salem, polymer, 3182 (1992). 20. DR
Salem, polymer, 771 (1994). 21. R. de Daubeny, CW Bunn, CJ Brown, Proc. Рой. Соц. London(A), 226, 531 (1954). 22. JB
Champchesnell, DI Bower, IM Ward, JF Tassin, and G.
Polymer, 34,3763 (Lorenzo)1993). 23. JB
Faisant de Champchesnel, JF Tassin, DI Bower, IM Ward, and G.
Polymer, 35,4092 (Lorenzo)1994). 24. DJ Walls and JC Coburn, J. Polym. Sci. Part B, Polym. Phys. , 30, 887 (1992). 25. O. Kratky, Koll. Zeit. , 64, 213 (1933). 26. T. Inoue, H. Okamoto, and K.
Crab Willow and large molecule in Daqi, month, 7069 (1992). 27. H. Okamoto, T. Inoue, and K.
Crab Willow and large molecule in Daqi, month, 3413 (1992). 28. LRG
Treloar, elastic physics of rubber, Clarendon Press, Oxford, UK (1975). 29. G.
Lebourvellec, PhD thesis, Sixth University, Paris (1984). 30. P. Lapersonne, JF Tassin, and L.
Monnerie submits toPolymer.